Raith EBL光刻機隔振方案
Raith EBL光刻機隔振方案
ARISMD主動隔振系統/主動式減震臺/主動防震臺，模塊化主動隔振系統，可采用填充式安裝方式，適用于大型光刻機、球差透射電子顯微鏡、EBL電子束曝光機.......
背景：微電子微納米加工應用
使用單位：Infinroe
設備型號：Raith EBPG5200 Plus
隔振方案：ARISMD1000 Pro主動隔振系統/主動式減震臺/主動防震臺
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ARISMD Pro主動隔振系統/主動減震系統/主動防震系統
緊湊型模塊化主動隔振系統，能夠抵消影響超高精密設備或工具的振動，多個獨立的隔振器可承受高達4000Kg的大型設備負載，安裝簡易靈活，無需抬高及重新校準。
主要優勢：
1. 6自由度隔振
2. 0.5Hz開始隔振有效增益
3. 可變阻尼
4. 內置人工智能功能
5. 主動隔振頻率范圍可調整
6. 遠程控制
7. 內置實時診斷工具（頻譜分析儀、示波器）
8. 震動模式（可選）
應用領域：
1. 電子顯微鏡（SEM、TEM、FIB、EBL、DualBeam）
2. 半導體測試設備（光刻機、晶圓測試儀、電子束曝光機、CD_SEM）
3. 掃描隧道顯微鏡/STM、掃描探針顯微鏡SPM、大型原子力顯微鏡/AFM
4. X-Ray、CT、MPI
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規格參數：
| Model/型號 | ARISMD300 Pro | ARISMD500 Pro |
| Dimensions/規格（mm） | 230x230x75 230x270x75 | 230x230x75 230x270x75 |
| Load Capacity（Kg） | 100-300 per Isolator (Module) Number of Modules unlimited | 200-500 per Isolator (Module) Number of Modules unlimited |
| Actuaotor Force/制動器力 | Vertical = 150N ; Horizontal = 75N | |
| Active Isolation Range/主動隔振頻率 | 0.5-100Hz | |
| Architecture/結構 | MVIS - Multi-layer Vibration Isolation Structure/MVIS-多層隔振結構 | |
| Degrees of Freedom/自由度 | 6 degrees | |
| Vibration Isolation Performance/性能 | ~8db gain on 1Hz ~20db gain on 2Hz | |
| Setting Time/響應時間 | ≤0.1 sec | |
| Real-Time Diagnostic Tools 實時診斷工具 | Built-in Real-Time 2 channels Oscilloscope, Real Time 2 channel Spectrum Analyzer | |
| Real-Time performance adjustment 實時性能調整工具 | Adaptive Control in ALL 6 degrees of freedom in real-time. Remote Access | |
| Input Voltage/電壓 | AC 80-260V/50-60Hz | |
